能源问题正日益成为世界性问题,我国在太阳能光伏产业的核心技术已于世界水平,而用于太阳能的主要材料多晶硅,它的清洗洁净程度直接影响到太阳能电池的成品率和性能。用超声波清洗的目的主要是清除多晶硅表面的沾污,如微粒,有机物,无机金属离子、氧化层等杂质。多晶硅表面吸附杂质的主要原因是,多晶硅表面原子垂直向上的化学键被破坏成为悬空键,在多晶硅表面形成自由力场,极易吸附各种杂质。这些杂质和多晶硅之间迅速形成化学吸附,难以去除。在生产多晶硅的生产工艺过程中,其中的一个重要环节,是采用超声波清洗应用技术。
